閥門(mén)密封面研磨的基本原理
研磨，在閥門(mén)制造過(guò)程中是其密封面常用的一種光整加工方法。研磨可以使閥門(mén)密封面獲得很高的尺寸精度、幾何形狀粗度及表面粗糙度，但不能提高密封面各表面間釜用機械密封件的相互位置精度。研磨后的閥門(mén)密封面通?？梢缘降某叽缇葹?0.001~0.003mm;幾何形狀精度(如不平度)為 0.001mm;表面粗糙度為 0.1~0.008。
密封面研磨的基本原理包括研磨過(guò)程、研磨運動(dòng)、研磨速度、研磨壓力及研磨余量五個(gè)方面。
研磨過(guò)程
研具與密封圈表面很好地巾合在一起，研具沿釜用機械密封貼合表面作復雜的研磨運動(dòng)。研具與密封圈表面間放有研磨劑，當研具與密封圈表面相對運動(dòng)時(shí)，研磨劑中的部分磨粒在研具與密封圈表面間滑動(dòng)或滾動(dòng)，切去密封圈表面上很薄的一層金屬。密封圈表面上的凸峰部分首先被磨去，然后漸漸達到要求的幾何形狀。
研磨不僅是磨料對金屬的機械加工過(guò)程，同時(shí)還有化學(xué)作用。研磨劑中的油脂能使被加工表面形成氧化膜，從而加速了研磨過(guò)程。
研磨運動(dòng)
研具與密封圈表面相對運動(dòng)時(shí)，密封圈表面上每一點(diǎn)對研具的相對滑動(dòng)路和都應該相同。并且，相對運動(dòng)的方向應不斷變更。運動(dòng)方向的不斷變化使每一磨粒不會(huì )在密封圈表面上重復自己運動(dòng)軌跡，以免造成明顯的磨痕而增高密封圈表面的粗糙度。此外，運動(dòng)方向的為斷變化不能使研磨劑分布得比較均勻，從而較均勻地切去密封圈表面的金屬。
研磨運動(dòng)盡管復雜，運動(dòng)方向盡管大變化，但研磨運動(dòng)始終是沿著(zhù)研具與密封圈表面的貼合表面進(jìn)行的。無(wú)論是手工研磨或機械研磨，密封圈表面的幾何形狀精度則主要受研具的幾何形狀精度及研磨運動(dòng)的影響。
研磨速度
研磨運動(dòng)的速度越快，研磨的效率也越高。研磨速度快，在單位時(shí)間內工件表面上通過(guò)的磨粒比較多，切去的金屬也多。
研磨速度通常為 10~240m/min。研磨精度要求高的工件，研磨速度一般不超過(guò) 30m/min。閥門(mén)密封面的研磨速度與密封面的材料有關(guān)，銅及鑄鐵密封面的研磨速度為 10~45m/min;淬硬鋼及硬質(zhì)合金密封面為 25~80m/min;奧氏體不銹鋼密封面為 10~25m/min。
研磨壓力
研磨效率隨研磨壓力的增大而提高，研磨壓力不能過(guò)大，一般為 0.01～0.4MPa。
研磨鑄鐵、銅及奧氏體不銹鋼材料的密封面時(shí)，研磨壓力為 0.1~0.3MPa;淬硬鋼和硬質(zhì)合金密封面為 0.15~0.4MPa。粗研時(shí)取較大值，精研時(shí)取較小值。
研磨余量
由于研磨是光整加工工序，故切削量很小。研磨余量的大小取決于上道工序的加工精度和表面粗糙度。在保證去除上道工序加工痕跡和修正密封圈幾何形狀誤差的前提下，研磨余量愈小愈好。
密封面研磨前一般應經(jīng)過(guò)精磨。經(jīng)精磨后的密封面可直接精研，其最小研磨余量為：直徑余量為 0.008~0.020mm;平面余量為 0.006~0.015mm。手工研磨或材料硬度較高時(shí)取小值，機械研磨或材料硬度較低時(shí)取大值。
閥體密封面不便磨削加工，可采用精車(chē)。精車(chē)后的密封面須粗研后才能進(jìn)行精研，其平面余量為 0.012~0.050mm。
作者：嘉善日益機械密封件廠(chǎng)
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關(guān)鍵詞：釜用機械密封件，釜用機械密封